中国在5nm光刻技术上有重大突破!有望突破ASML封锁

2020-08-20 17:45:30admin来源:未知
史上最牛网导读: 中国在5nm光刻科技中终于取得重大进展!有很大机会可以打破ASML约束! 我国华为被美国约束 我们从美国对我国的科技企业例如华为的打压限制中可以得知,第一,只要一个国家的科技落后于
中国在5nm光刻科技中终于取得重大进展!有很大机会可以打破ASML约束!

 

我国华为被美国约束

 

我们从美国对我国的科技企业例如华为的打压限制中可以得知,第一,只要一个国家的科技落后于其他国家就会被其他国家压迫,限制。第二,科学是造福于全人类的,而科技是关乎到一个国家的地位!一个国家科技不断地发达,其他国家就会有危机感,就会眼红。我国近几年在科技发面的探究有飞跃的进步,我国正在从经济大国转变为科技强国,面对着我国的越来越强大,美国也开始搞一些小动作来为难约束我国,与美国存在这样的差距就造成我国没有话语权,被美国所约束!要知道东方大国因为美国华为的崛起而感到了一些威胁,于是对华为采取了一系列的封禁措施,借此来抑制华为的发展。我国即使在这几年科技不断地进步,但是与美国相比我国还有待提高,还存在着非常大的差距。

中国在5nm光刻技术上有重大突破!有望突破ASML封锁

华为受限制无法制作芯片
一个很容易理解的道理是:如果一个国家在某一个方面非常发达,那么其他国家就会觉得受到了威胁,就会对其进行打压。美国对我国的华为进行约束和限制,使得我国在很多方面都无法得以进展。 并且因为如今的全球一体化,没有公司可以独自完成芯片行业,而制造芯片最重要的就是需要光刻机。但是其由西方人控制,美国也正是知道如此,就停止了对华为的供给,让华为无法制造芯片,我国的台积电也一样需要荷兰ASML。

中国在5nm光刻技术上有重大突破!有望突破ASML封锁

中国有可能制成光刻机
几天前,为华为后续的芯片制造担忧的同时,据相关消息,华为已经开展了6g的相关研究,中国对华为提供5g技术,不知道华为现在研发6g是什么态度。 中科院苏州研究所已经研发成功了新型5nm高精度的激光光刻技术, 标志着我国的5nm光刻技术取得了重大进展。中国制成先进光刻机,将有望打破ASML的封锁,华为有救了,美国非常着急。

 

中国在5nm光刻技术上有重大突破!有望突破ASML封锁


为了在12mm×12mm的小尺寸中实现这些处理器,英特尔采用了其名为的3D堆叠技术。这款华为mate30系列是华为旗下的旗舰机型,这款手机的推出不同以往手机的是采用了大量华为自主研发的技术,而且这也有可能是最后一款采技术的处理器。
光刻技术还需完善
不外我们也不能盲目乐观,这一项激光光刻技术只是在科学研究阶段取得了重大进展,距离利用还有很远的一段路要走,更别说实现量产了。 不外,有总比无强太多,期望有更加的突破。 从实际情况来看,在未来很长一段时间内,荷兰的ASML光刻机依旧是垄断地位。 这也是美国打压华为等中国科技企业的一张王牌,也让包括华为在内因为芯片打压的科技企业,所有手段卑鄙到极端,未来华为生产的每一颗芯片都要经美国政府的批准,只需要进一步完善,尤其是最新的这项5nm激光光刻技术。

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