台积电N4X（5nm加强版）制程技术试产时间将在2023年上半年

台积电（TSMC）正式公开最新的N4P工艺，为5nm制程的改良加强版，是台积电近几年对半导体制程进行的第三次重大升级。
利用其在 5nm 量产方面的经验，台积电进一步加强了其技术，为高性能计算产品提供了理想的功能，创造了 N4X。这些特点包括：

1. 为高驱动电流和最大频率而优化的器件设计和结构

2. 针对高性能设计的后端金属堆栈优化

3. 超高密度的金属-绝缘体-金属电容器，可在极端性能负载下实现强大的功率传输

台积电宣布，将针对高效能运算产品推出名为N4X的制程技术，预计在2023年上半年进入试产。

N4X是台积电旗下第一款以高效能运算设计为目标的制程技术，并且以「X」标示代表针对高效能运算产品打造规格，主要支援高驱动电流，以及最高运作时脉结构设计，同时也配合金属材质制程最佳化，更以超高密度金属电容对应在极限效能工作负载的高功率运作需求。

相比N5制程，台积电表示在N4X的效能表现将提升15%，而相比N4P制程技术则在1.2V供电情况下可提升4%运算效能。而理论上的驱动电压可承受1.2V以上，借此提升更高运算效能。

而藉由X系列制程技术让处理器产品运算效能可额外提升，台积电也说明将配合3DFabric封装技术打造更高运算平台。

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